Análise fotoelástica da união de pilar a implantes de hexágonos externo e interno

June 12, 2017 | Autor: Flavio Neves | Categoria: Dislocations, Shear Stress, Bone Loss, Stress distribution, Stress Distribution, Stress Concentration
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Trabalho Original

Análise fotoelástica da união de pilar a implantes de hexágonos externo e interno Sérgio Rocha Bernardes* Cleudmar Amaral de Araújo** Alfredo Júlio Fernandes Neto*** Vanderlei Luís Gomes*** Flávio Domingues das Neves****

RESUMO Os Implantes originais apresentam uma perda óssea marginal crônica que pode estar ligada à concentração de tensões sobre os implantes após a aplicação de carga. Diferentes tipos de junções pilar/implante poderiam minimizar o problema. Este trabalho analisou a distribuição de tensão sobre os implantes de mesma forma externa, diferindo apenas nas junções: hexágono externo (HE) e hexágono interno (HI). Estas peças foram inseridas em modelos fotoelásticos e submetidas a duas cargas compressivas: axial e deslocada 6,5 mm do centro. Foram analisados 61 pontos sobre o corpo do implante, nos quais os valores de tensão cisalhante máxima foram determinados. Gráficos foram realizados e suas áreas calculadas para os resultados obtidos em todo o corpo do implante e apenas na região de plataforma, ambos sob as duas situações de carga. Não foi encontrada nenhuma diferença estatística significante para carga axial nas duas regiões de análise propostas (“t” de Student, p
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